涂装设备是将化学品等涂敷到产品和材料上的设备。典型的涂布设备有辊涂机、旋涂机、浸涂机、喷涂机、点涂机等，根据被涂物的形状、被涂物的种类、涂膜的目的而采用各种涂敷方法。 。近年来，半导体制造、FPD（平板显示器）制造、太阳能电池和二次电池制造等工业领域对精确…
2025-12-24电阻焊机是一种用于焊接金属的机器。通过将待焊接区域固定在电极之间并在向金属通电的同时施加压力来焊接金属。由于利用了被焊接金属的电阻产生的焦耳热，因此根据电流的流动方式，有多种不同的类型，例如逆变器型、晶体管型和电容器型。另外，根据通电方式的不同，可分为…
2025-12-24半导体清洗设备是清洗工艺中使用的设备的总称，是半导体制造工艺之一。清洗工艺是重要工艺，占整个半导体制造工艺的30-40%。在高温处理工序或薄膜形成工序之前，有作为前工序的清洗，除去污垢；在除去氧化物和薄膜的蚀刻工序之后，有作为后工序的清洗，除去抗蚀剂残渣。半…
2025-12-24步进曝光机是一种用于光刻（半导体和液晶制造工艺）的投射曝光设备。随着IC电路图案的小型化，制作全尺寸光掩模图案变得困难。这是指在对大于实际尺寸的掩模图案进行缩小投影曝光时进行分步重复曝光的曝光设备步进机是一种曝光设备，通过执行步进和重复来曝光整个待曝光区…
2025-12-24电子束光刻设备是半导体光掩模生产中利用电子束在光掩模毛坯（以下简称毛坯）上绘制电路图形的设备。在存储器、CPU等LSI的制造中，将分割为数十层的光掩模作为母板，使用曝光装置将光掩模上的图案转印到晶圆上来制作电路。光掩模的质量对LSI良率影响最大。因此，在光掩模…
2025-12-24ALD（沉积）设备是利用原子层沉积形成纳米级薄膜的设备。由于薄膜是按原子逐层形成的，因此具有精确的膜厚可控性和精确的阶梯涂布性能。但缺点是成膜速度慢。ALD成膜中使用了许多有机金属材料，但其中许多材料对人体有负面影响，并且高度易燃。处理需要专业知识和极其小心…
2025-12-24超连续谱光源（SC光源）又称超连续谱激光器，是发射特殊激光的光源。激光是指具有相同相位的光，即相干光。普通激光器发射单一波长的光，但 SC 光源是多波长激光光源，可在很宽的波长范围内同时发射多束相位对齐的光。据说，当不同波长的光重叠时，光会变成白色。 SC光源…
2025-12-24高侧驱动器是电子电路中使用的电路结构，是驱动电源与负载之间的开关元件的驱动器。被驱动的开关元件称为高侧开关，控制高侧开关来接通/断开电源以及向负载提供或断开电流。另一方面，驱动负载和接地之间的开关元件的驱动器称为低侧驱动器。为了将电流传递到各种负载，高…
2025-12-24HID泛光灯是高亮度放电泛光灯的总称，区别于采用LED作为光源的照明。 HID 泛光灯使用多种类型的光源，包括汞、金属卤化物和卤素。HID 是高强度放电的缩写。另一方面，泛光灯是一种利用反射镜或透镜向特定方向发出强光的照明装置。每种光源都有不同的特性，例如寿命和功耗…
2025-12-24旋转激光器是一种使用激光的整平装置。名称因制造商而异，有时也称为激光水平仪。找平就是把东西找平，是建筑工地上非常重要的一道工序。如果地板和窗框不水平，建筑物的结构就不干净。旋转激光器在旋转时发射激光束，并且可以通过接收器接收来轻松调平。可在户外大面积或…
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