HORIBA堀场 RU-1000 等离子监测仪

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HORIBA堀场 RU-1000 等离子监测仪

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HORIBA堀场 RU-1000 等离子监测仪HORIBA堀场 RU-1000 等离子监测仪触摸面板薄膜和玻璃基材通过反应性溅射沉积在基材上。 反应性溅射法是一种在真空中将溅射颗粒与氧气和氮气化学反应的方法，但反应气体的定量沉积速度较慢，且被认为难以实际应用。 然而，尽管在反应模式…

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HORIBA堀场  RU-1000 等离子监测仪

HORIBA堀场  RU-1000 等离子监测仪

触摸面板薄膜和玻璃基材通过反应性溅射沉积在基材上。 反应性溅射法是一种在真空中将溅射颗粒与氧气和氮气化学反应的方法，但反应气体的定量沉积速度较慢，且被认为难以实际应用。 然而，尽管在反应模式和金属模式之间存在不稳定且沉积速率较快，但存在一种过渡模式，沉积速率变化很大，已知通过控制等离子体发光强度的反应性气体可以维持过渡区。

RU-1000等离子体发射控制器通过传感器捕捉等离子体发光强度，并采用独特算法向内部快速响应质量流量控制器指示合适的反应性气体流量，实现稳定沉积，同时将沉积速率提升至接近金属模态。

 

  • 等离子体发射控制器RU-1000用于提高沉积速率。 通过控制过渡区的反应气体，相较于反应气体的定量供应法，沉积速率可以提高数倍。

  • 通过将多个等离子体发射强度传感器安装在宽基底上，并利用这些信号高速控制反应气体，可以实现极为均匀的薄膜沉积。

  • 等离子体排放控制器RU-1000是一款由专注于光学技术的堀叶制造和拥有优异气体控制技术的堀叶Estech生产的国产产品，拥有优异的售后服务。

制造商特点

在等离子体发射控制器的制造过程中，堀叶制造株式会社负责测量等离子体发射强度的基本光学设计，堀叶Estech株式会社负责高速控制反应气体流动的功能部件设计。 堀叶制造株式会社是汽车废气分析仪、薄膜测量以及物理和化学分析领域的领先企业，由于这些分析技术的基本原理属于光学测量技术，等离子体发光测量由该领域的顶尖企业负责。 另一方面，反应性气体流量的控制部分由质量流量控制器（气体流量控制装置）制造商负责，这些设备在全球半导体制造设备中最为常见。 RU-1000等离子体排放控制器将接受挑战，通过汇聚堀叶集团最优技术，进一步发展至最高技术水平。
 

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