HORIBA堀场 SLIA-300 工厂废水测量

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HORIBA堀场 SLIA-300 工厂废水测量

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HORIBA堀场 SLIA-300 工厂废水测量HORIBA堀场 SLIA-300 工厂废水测量超纯水硅分析取得诸多成就！紧凑且灵敏的新性能。超纯水中的二氧化硅浓度对半导体/FPD工艺中的产品精度和良率有显著影响。 我们可以可靠地满足1 μg/L（1 ppb）的测量要求。 紧凑的桌面机身在整个测量…

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Product Detail

HORIBA堀场  SLIA-300 工厂废水测量

HORIBA堀场  SLIA-300 工厂废水测量

超纯水硅分析取得诸多成就！
紧凑且灵敏的新性能。

超纯水中的二氧化硅浓度对半导体/FPD工艺中的产品精度和良率有显著影响。 我们可以可靠地满足1 μg/L（1 ppb）的测量要求。 紧凑的桌面机身在整个测量范围内提供高度灵敏的测量。 凭借快速响应和自诊断功能等全方位基本性能，以及新的高灵敏度性能，它强力支持半导体/FPD制造的纯水工艺。

高灵敏度和高重复性

这种独特的新开发细胞对低浓度物质具有高度灵敏度。
高速5分钟测量保证0~2μg/L范围内的全尺寸±2%重复性。

高灵敏度和高重复性

这种独特的新开发细胞对低浓度物质具有高度灵敏度。
高速5分钟测量保证0~2μg/L范围内的全尺寸±2%重复性。

将试剂消耗减少1/5

改进的反应电池将试剂消耗减少到传统试剂的五分之一。 这能大幅降低试剂的运行成本。

形式SLIA-300
测量方法钼蓝吸收光度测量。
测量范围0~2/0~20μg/L 或 0~5/0~50μg/L（订购时指定）
重复性全量级±2%
测量时间5分
测量周期5~995分钟可选设置
指令指示· 测量值（浓度）：3 1/2位 7段 LCD
· 状态信息（消息）：16 个字符× 4 行点阵 LCD
测量点1~6件物品（订购时指定）
校准函数标准流体校准
校正函数空白校正，校准曲线校正（针对每条线）
所用试剂· 试剂A：硫酸+铵钼酸
盐·试剂B：草酸
·试剂C：L（+）-抗坏血酸
试剂变换循环1周（根据我们推荐的治疗时间）
电源100 - 240V 交流电 50/60 Hz
最大功耗约600VA
安装条件室内温度：10~35°C 湿度：85%或以下
样品水条件· 水温：15~35°C
· 供水流量：200~250毫升/分钟（可调）
· 压力：0.1~0.5MPa
尺寸375（高）×580（西）×500（深）毫米（不包括突出物）
质量总计1点，约41公斤（再增加一个测量点，增加1公斤）
外部输入/输出浓度输出· 4~20mA 直流电或 0~16mA 直流电或 0~1V 直流
电（订单时指定）
接触输出· 所有管线共有：测量过程中同步信号、报警（批次）、加热器、关机、校准信号1、2、浓度上限警报或样品断水
・ 每条管线：测量范围、样品断水或浓度上限报警
（选择浓度上限报警和样品断水按批量/每条管线进行选择。） 此外，订购时也会指定报警内容的选择。 ）
接触输入• 所有线路共有：开始校准、开始测量、经济运行、线路选择、低范围测量、高距离测量
串行输入/输出RS-232C
选项样品水加热装置，标准液体供应装置，试剂制备仪器
认证标准CE， KC， FCC 规则第15部分，UKCA