OHKURA大仓 工业仪器 SP4200C

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OHKURA大仓 工业仪器 SP4200C

OHKURA大仓 工业仪器 SP4200C

OHKURA大仓 工业仪器 SP4200COHKURA大仓 工业仪器 SP4200C该装置是一种化学去除pH电极结垢的装置，专为超声波清洗或水射流清洗无效的环境开发。 这是一种全自动化学溶液清洗，之前是手动完成的，定期注入化学溶液，通过气泡清洗，并收集化学液体。 它在烟气脱硫设备中测…

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OHKURA大仓  工业仪器 SP4200C

OHKURA大仓  工业仪器 SP4200C

该装置是一种化学去除pH电极结垢的装置，专为超声波清洗或水射流清洗无效的环境开发。 这是一种全自动化学溶液清洗，之前是手动完成的，定期注入化学溶液，通过气泡清洗，并收集化学液体。 它在烟气脱硫设备中测量pH值时尤其有效。 该装置由控制面板、灌溉器（包括电极支架）、化学罐和保持放大器（可选）组成。
特色

■控制面板：内置序列电路和电磁阀，用于确定
测量和清洗循环。

■化学罐 它由
一个罐、一个支架和一个电磁阀组成。

■灌溉器
控制面板发出的信号会抬起电极支架，在电极附近创造一个空间，用于注入和收集化学溶液。

■Hold-up（可选）该
设备在清洗前立即保持pH值以进行洗涤，pH值由控制面板的信号维持。



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