ULVAC爱发科 沉积控制器 CRTM-R1

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ULVAC爱发科 沉积控制器 CRTM-R1

ULVAC爱发科 沉积控制器 CRTM-R1

ULVAC爱发科 沉积控制器 CRTM-R1ULVAC爱发科 沉积控制器 CRTM-R1CRTM-R1是一款基于ULVAC多年来培育技术开发的石英晶体沉积控制器。 这种新的测量方法比传统机器实现了更高的速率稳定性和更高的分辨率。 它可用于多种沉积工艺，从金属薄膜到光学薄膜。特色新的测量方法显…

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Product Detail

ULVAC爱发科  沉积控制器 CRTM-R1

ULVAC爱发科  沉积控制器 CRTM-R1

CRTM-R1是一款基于ULVAC多年来培育技术开发的石英晶体沉积控制器。 这种新的测量方法比传统机器实现了更高的速率稳定性和更高的分辨率。 它可用于多种沉积工艺，从金属薄膜到光学薄膜。

特色

  • 新的测量方法显著提升了速率稳定性。

  • 能力（CI值）测量提升了晶体板检测异常的能力。

  • 其出色的薄膜厚度和速率分辨率（0.0018Å @5MHz）也非常适合低沉积率控制。

  • 它最多可同时控制8个元素。 （添加选项时）

  • 该通信方式支持以太网和RS-232C。

  • 主机上存储的各种日志数据可以以CSV格式传输到USB中

用途

金属和光学薄膜沉积过程中的厚度和速率控制。

规格

频率测量范围4.00~3.00MHz@4MHz
5.00~3.50MHz@5MHz
6.00~4.50MHz@6MHz
测量分辨率1 MHz
结局1 MHz
沉积速率测量范围*10.000~999.9Å/s （0~99.99nm/s）
测量分辨率*20.0028Å/s @4MHz
0.0018Å/s @5MHz
0.0012Å/s @6MHz
显示分辨率*10.001Å/s
薄膜厚度测量范围*10.000~9999kÅ （0~999.9μm）
测量分辨率*20.0028Å @4MHz
0.0018Å @5MHz
0.0012Å @6MHz
显示分辨率*10.001kÅ
支持的传感器频率4MHz、5MHz、6MHz
可安装传感器数量（单一）2（最大8点，IF卡：2分/×4张牌）
可安装的传感器数量（多枚）2（最大8点，IF卡：2分/×4张牌）
采样率100毫秒
车库项目数量999
流程项目数量99
数字输入点14分（MAX56，DIO卡：4分×14分）
数字输出点8（MAX32，DIO卡：4×8分）
模拟输出点的数量2（MAX16，IF卡：2分/片×4张卡 + AO卡车：8分/片×1张卡）
模拟输出范围-10~+10V
沟通方法局域网（以太网）（1000BASE-T/100BASE-TX/10BASE-T）
RS-232C
USB2.0 Type-B
尺寸（宽度×深度×高度）CRTM-R1：约480×约320×约130毫米
CTM（-D） 选项：约80×约152×约53毫米
质量 kgCRTM-R1：5.3公斤（最大重量：含选装5.8公斤）
CTM（-D） 选配：0.6公斤
公用事业交流 100~240V±10%，50/60Hz
最大功耗150W
兼容保险丝250V2.5A（2张5×20mm）
IP保护级别IP20
过电压类别第二类。
高度条件海拔2000米以下
污染水平2
使用环境温度：5~40°C
，湿度：相对湿度20~85%（无冷凝水），
仅限室内
存储环境温度 -10~60°C（无热水，无凝露） 湿度
20~85%相对湿度（无冷凝）
热身时间大约30分钟
贴合规格CE

*1：当工具=100和密度=1时的数值被设置。
*2：频率分辨率由工具=100和密度=1换算。


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