ULVAC爱发科 真空沉积电子枪 EGN-206MULVAC爱发科 真空沉积电子枪 EGN-206M“EGN型号”是一种新开发的金属沉积电子束蒸发源,采用反射电子吸收机制,专注于提升可维护性。平顶结构减少了电子束蒸发源的面积,并实现了高维护。特色抑制反射电子入射到基底,减少基底…
ULVAC爱发科 真空沉积电子枪 EGN-206M
ULVAC爱发科 真空沉积电子枪 EGN-206M
“EGN型号”是一种新开发的金属沉积电子束蒸发源,采用反射电子吸收机制,专注于提升可维护性。
平顶结构减少了电子束蒸发源的面积,并实现了高维护。
抑制反射电子入射到基底,减少基底温度上升
平顶结构确保电子束蒸发源的沉积面积较小,便于清洁
新的发射结构使零件数量减少到60%,使组装更为便捷。
部分部件可以修改以选择带梁和点梁
极高的可靠性是基于多年设备制造商积累的专业知识设计实现的。
| 模型 | EGN-206M | EGN-406M | |
| 电子束偏转角 | 270° | ||
| 坩埚数量 | 6 | ||
| 坩埚容量 | 20cc | 40cc | |
| 坩埚尺寸:顶部×底部×深度 | Φ42×Φ32×19(毫米) | Φ50×Φ41×25(毫米) | |
| 冷却水体积 | 哈斯 | 超过10升/分钟 | |
| 其他 | 超过2升/分钟 | ||
| 外部尺寸(W×D×H)无突出物 | 214×343×144(毫米) | ||
| 质量 | 最高可达28公斤 | ||
| 沉积速率 | 1.6微米/分钟 (带状梁/铝/8千瓦/40cc坩埚/250H,直接位于哈斯上方) | ||
| 最大加速电压 | -10kV | ||
| 最大发射电流 | 0.8A | 1.0A | |
| 适用电源 | HPS-1000N-100/HPS-1000N-200 | ||
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