OTSUKA大塚电子测量仪器 OPTM-A3

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OTSUKA大塚电子测量仪器 OPTM-A3OTSUKA大塚电子测量仪器 OPTM-A3OPTM是一款基于显微分光技术、通过微区绝对反射率测量来实现高精度膜厚与光学常数精准解析的设备。它可对各种薄膜、晶圆、光学材料等的涂层与多层膜结构进行无损、非接触式测量，单点测量仅需1秒，速…

OTSUKA大塚电子测量仪器 OPTM-A3

OPTM是一款基于显微分光技术、通过微区绝对反射率测量来实现高精度膜厚与光学常数精准解析的设备。它可对各种薄膜、晶圆、光学材料等的涂层与多层膜结构进行无损、非接触式测量，单点测量仅需1秒，速度卓越。设备内置的软件系统直观易用，即便是初学者也能轻松完成光学常数分析。

特点

● 非接触、非破坏式，量测头可自由集成在客户系统内

● 初学者也能轻松解析建模的初学者解析模式

● 高精度、高再现性量测紫外到近红外波段内的绝对反射率，可分析多层薄膜厚度、光学常数（n：折射率、k：消光系数）

● 单点对焦加量测在1秒内完成

● 显微分光下广范围的光学系统（紫外 ~ 近红外）

● 独立测试头对应各种inline定制化需求

● 最小对应spot约3μm

● 独家专利可针对超薄膜解析nk

测量范围（理论值）

● 绝对反射率分析

● 多层膜解析（50层）

● 光学常数（n：折射率、k：消光系数）

膜或者玻璃等透明基板样品，受基板内部反射的影响，无法正确测量。OPTM系列使用物镜，可以物理去除内部反射，即使是透明基板也可以实现高精度测量。此外，对具有光学异向性的膜或SiC等样品，也可完全不受其影响，单独测量上面的膜。

应用范围

● 半导体、复合半导体：硅半导体、碳化硅半导体、砷化镓半导体、光刻胶、介电常数材料

● FPD：LCD、TFT、OLED（有机EL）

● 资料储存：DVD、磁头薄膜、磁性材料

● 光学材料：滤光片、抗反射膜

● 平面显示器：液晶显示器、薄膜晶体管、OLED

● 薄膜：AR膜、HC膜、PET膜等

● 其它：建筑用材料、胶水、DLC等

规格

OPTM-A1		OPTM-A2	OPTM-A3
波长范围	230 ~ 800 nm	360 ~ 1100 nm	900 ~ 1600 nm
膜厚范围	1nm ~ 35μm	7nm ~ 49μm	16nm ~ 92μm
测定时间	1秒 / 1点以内
光径大小	10μm (最小约3μm)
感光元件	CCD		InGaAs
光源规格	氘灯卤素灯		卤素灯
尺寸	556(W) X 566(D) X 618(H) mm (自动XY平台型的主体部分)
重量	66kg（自动XY平台型的主体部分）

高斯摩代理品牌：EYE岩崎、SEN日森、CCS晰写速、NPM日脉、REVOX莱宝克斯、SERIC索莱克、SONIC索尼克、SANKO三高、TOPCON拓普康、TOKI东机产业、NEWKON新光、HAYASHI林时计、SIBATA柴田、SUGIYAMA杉山电机、OHKURA大仓、ULVAC爱发科

优势品牌：USHIO牛尾、FUNATECH船越龙、ORC欧阿西、SAGADEN嵯峨、SAKAZUME坂诘、DNP大日本科研、TOKYO DENSHOKU电色、KKIMAC
S-VANS斯万斯、ORIHARA折原、LUCEO鲁机欧、HIKARIYA光屋、YAMADA山田光学
AND艾安得、T&D天特、JIKCO吉高、DKK-TOA东亚电波、OKANO冈野、IMV艾目微
MITUTOYO三丰、KYOWA共和、ONOSOKKI小野、SANEI三荣、HEIDON新东、KURABO仓纺
SHOWA昭和、THINKY新基、SURUGA骏河、ACCRETECH東京精密、SANSYO三商、ITOH伊藤
RKC理化、MACOME码控美、EIWA荣和、EXCEL艾库斯、YODOGAWA淀川等

优势产品：日本紫外线照度计、紫外线装置灯管、LED视觉光源、表面检查灯、手持检测灯
变色灯箱、色差仪、卤素光源装置、应力表面检查仪、LED光源机、电子天平、粘度计、膜厚计，恒流泵、采样泵、PH计、水分计、
地震测试仪、脱泡搅拌机、压力传感器、气体检测仪，接近开关、拉拔机、异音检测仪、下死点检测装置高斯摩代理品牌：EYE岩崎、SEN日森、CCS晰写速、NPM日脉、REVOX莱宝克斯、SERIC索莱克、SONIC索尼克、SANKO三高、TOPCON拓普康、TOKI东机产业、NEWKON新光、HAYASHI林时计、SIBATA柴田、SUGIYAMA杉山电机、OHKURA大仓、ULVAC爱发科

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