OTSUKA大塚电子 测量仪器 FE-300

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OTSUKA大塚电子 测量仪器 FE-300

OTSUKA大塚电子 测量仪器 FE-300

OTSUKA大塚电子 测量仪器 FE-300OTSUKA大塚电子 测量仪器 FE-300产品信息 特 长 薄膜到厚膜的测量范围、UV~NIR光谱分析 高性能的低价光学薄膜量测仪 藉由绝对反射率光谱分析膜厚 完整继承FE-3000高端机种90%的强大功能 无复杂设定，操作简单特点● 支持从薄膜到厚膜的…

产品详情

Product Detail

OTSUKA大塚电子  测量仪器  FE-300

OTSUKA大塚电子  测量仪器  FE-300

产品信息 特 长 薄膜到厚膜的测量范围、UV~NIR光谱分析 高性能的低价光学薄膜量测仪 藉由绝对反射率光谱分析膜厚 完整继承FE-3000高端机种90%的强大功能 无复杂设定，操作简单

特点

● 支持从薄膜到厚膜的各种薄膜厚度

● 使用反射光谱分析薄膜厚度

● 实现非接触、非破坏的高精度测量，同时体积小、价格低

● 简单的条件设置和测量操作！任何人都可以轻松测量薄膜厚度

● 通过峰谷法、频率分析法、非线性最小二乘法、优化法等，可以进行多种膜厚测量。

● 非线性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以进行光学常数分析（n：折射率，k：消光计数）。

测量范围（理论值）

绝对反射率测量

膜厚分析（10层）

光学常数分析（n：折射率，k：消光计数）

测量对象

功能膜、塑料
透明导电膜（ITO、银纳米线）、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合剂、胶粘剂、保护膜、硬涂层、防指纹， 等等。

半导体
化合物半导体、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、蓝宝石等。

表面处理
DLC涂层、防锈剂、防雾剂等。

光学材料
滤光片、增透膜等。

FPD
LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有机膜、封装材料）等

其他
HDD、磁带、建筑材料等

规格

类型

薄膜型

标准型

测量波长范围

300-800nm

450-780nm

测量膜厚范围
（SiO 2换算）

3nm-35μm

10nm-35μm

光斑直径

φ3mm / φ1.2mm


样本量

φ200×5（高）mm


测量时间

0.1-10s内


电源

AC100V ± 10% 300VA


尺寸、重量

280 (W) x 570 (D) x 350 (H) 毫米，24 公斤


其他

参考板，配方创建服务



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