OTSUKA大塚电子 测量仪器 SF-3/200OTSUKA大塚电子 测量仪器 SF-3/200即时检测 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于减薄制程中的厚度变化 (强酸环境中) 产品特色 非接触式、非破坏性光学式膜厚检测 采用分光干涉法实现高度检测再现性 可进行高速特点● 非接触式、…
OTSUKA大塚电子 测量仪器 SF-3/200
OTSUKA大塚电子 测量仪器 SF-3/200
即时检测 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于减薄制程中的厚度变化 (强酸环境中) 产品特色 非接触式、非破坏性光学式膜厚检测 采用分光干涉法实现高度检测再现性 可进行高速
特点
● 非接触式、非破坏性光学式膜厚检测
● 采用分光干涉法实现高度检测再现性
● 可进行高速的即时研磨检测
● 可穿越保护膜、观景窗等中间层的检测
● 可对应长工作距离、且容易安裝于产线或者设备中
● 体积小、省空間、设备安装简易
● 可对应线上检测的外部信号触发需求
● 采用最适合膜厚检测的独自解析演算法。(已取得专利)
● 可自动进行膜厚分布制图(选配项目)
规格
型号 | SF-3/200 | SF-3/300 | SF-3/800 | SF-3/1300 |
尺寸 | 123(W)x 224(D)x 128(H)mm | |||
硅片测量厚度范围 | 6~400μm | 10~775μm | 20~1000μm | 50~1300μm |
树脂厚度范围 | 10~1000μm | 20~1500μm | 40~2000μm | 100~2600μm |
最小采样周期 | 5kHz(200μsec) | |||
重复精度 | 0.01 %以下(*1) | |||
测量光斑直径 | φ20μm以上(*2) | |||
测量距离 | 50 、80、120、150 、200mm | |||
光源 | 半导体光源(镭射Class3B) | |||
分析方法 | FFT分析法 | |||
接口 | LAN, I/O端口 | |||
电源 | DC24V (AC电源需另外购入) | |||
选配件 | 多种测试距离套筒、电源单元(AC用)、AL基准、测试光检出标的、光纤清洁器 | |||
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优势产品:日本紫外线照度计、紫外线装置灯管、LED视觉光源、表面检查灯、手持检测灯
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