OTSUKA大塚电子 测量仪器 MINUK

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OTSUKA大塚电子  测量仪器  MINUK

OTSUKA大塚电子 测量仪器 MINUK

OTSUKA大塚电子 测量仪器 MINUKOTSUKA大塚电子 测量仪器 MINUKMINUK可评价nm级的透明的异物・缺陷,一次拍照即可瞬时获得深度方向的信息,可非破坏・非接触・非侵入的进行测量。且无需对焦,可在任意的面进行高速扫描,轻松决定测量位置。特点1.凭借宽视野( 700μm)…

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Product Detail

OTSUKA大塚电子  测量仪器  MINUK

OTSUKA大塚电子  测量仪器  MINUK

MINUK可评价nm级的透明的异物・缺陷,一次拍照即可瞬时获得深度方向的信息,可非破坏・非接触・非侵入的进行测量。且无需对焦,可在任意的面进行高速扫描,轻松决定测量位置。

特点

1.凭借宽视野( 700μm)与高分辨率 (488nm) ,在测量对象中搜寻异物中无需耗费精力。

以往,由于视野范围狭窄,在查找异物等目标位置时,不得不反复扫描被测对象的全域。MINUK

 无需通过成像光学系统,可直接记录样品光,从根本上解决了透镜的像差问题,实现大深度、宽视野、无像差的成像效果。

2.可捕捉深度 1400μm 的全域信息,支持任意高度切片观测1次测量即可获取相当于数千张图像的信息量

以往,无论需要观测的位置在哪里,都需要持续拍摄数千张图像才能定位目标区域。

而 MINUK 可瞬时完成 700×700μm 平面范围、1400μm 深度方向的信息采集。设备以约 2μm 的轴向分辨率生成约 700 张切片图像,通过对这些数据进行数字重聚焦处理,即可对样品三维结构开展追加验证分析。

3.将透过率和折射率的三维分布可视化,将肉眼无法看到的纳米级表面形状数值化

以往传统设备难以完成对焦操作,无法实现数据量化分析。而MINUK可对人眼不可见的纳米级表面形貌进行定量测量,还能检测微小的折射率变化。

规格

分辨率 x , y

6 9 1n m( 一次拍照)、4 8 8 n m( 合成)

视野 x , y

7 0 0×7 0 0μm

分辨率 z

10nm(相位差)

视野 z

±700μm

样品尺寸

10 0×8 0×t 2 0 mm(安装通用样品架时)

样品台

微动X Y样品台(自动)
 X:±10 mm Y:±10 mm
粗动样品台
X:12 9 mm Y:8 5 mm

激光

波长 6 3 8 nm
输出 0 .3 9 mW 以下 C la s s1 ( 对测量样品的照射强度)

尺寸(长×宽×高)mm

本体:5 0 5(W)×6 3 0(D)×4 3 9(H) ± 2 0 m m
※不含P C、附属品

重量

41k g

功耗

本体:2 9 0 VA
※不含P C、附属品


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