OTSUKA 大塚电子 Spectrum椭圆仪FE-5000/5000S（膜厚计 ）

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OTSUKA 大塚电子 Spectrum椭圆仪FE-5000/5000S（膜厚计 ）

OTSUKA 大塚电子 Spectrum椭圆仪FE-5000/5000S（膜厚计 ）

OTSUKA 大塚电子 Spectrum椭圆仪FE-5000/5000S（膜厚计 ）OTSUKA 大塚电子 Spectrum椭圆仪FE-5000/5000S（膜厚计 ）除了基本的光谱椭圆偏度系统外，自动角度调节机构使得对不同厚度的胶片厚度测量更加精确。可拆卸的减速器和旋转分析仪也扩大了可测量的范围，并提高了…

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OTSUKA 大塚电子  Spectrum椭圆仪FE-5000/5000S（膜厚计  ）

OTSUKA 大塚电子  Spectrum椭圆仪FE-5000/5000S（膜厚计  ）


除了基本的光谱椭圆偏度系统外，自动角度调节机构使得对不同厚度的胶片厚度测量更加精确。可拆卸的减速器和旋转分析仪也扩大了可测量的范围，并提高了测量精度。

OTSUKA 大塚电子 Spectrum 椭偏仪 FE‑5000 / FE‑5000S

定位：高精度紫外 - 可见光谱椭偏仪，用于纳米级多层薄膜膜厚 + 光学常数 (n/k) 解析；FE‑5000 为落地式高端机，FE‑5000S 为台式紧凑型。

核心规格（FE‑5000 vs FE‑5000S）

项目FE‑5000（落地式）FE‑5000S（台式）
波长范围250–800 nm（UV–Vis）300–800 nm（Vis）
膜厚范围0.1 nm ~ 1 μm（nd）同左
光斑直径φ1.2 mm（可选微区）φ2.0 mm
入射角45°–90°（自动驱动）同左
样品尺寸最大 200×200 mm（8 寸晶圆）最大 100×100 mm
精度tanψ/cosΔ ≤ ±0.01；膜厚重复性 ≤0.01%同左
测量时间单点 < 1 min（400 + 通道）同左
尺寸 / 重量1300×890×1750 mm / 350 kg650×400×593 mm / 50 kg
平台 / 扩展手动 / 自动 XY；兼容自动上料手动；紧凑型无自动上料

关键特点

  1. 纳米级超高精度：0.1 nm 膜厚分辨率，适合超薄栅氧、极薄光学膜。

  2. 多通道高速：400 + 光谱通道，1 分钟内全光谱测量，适合量产抽检。

  3. 自动多角度：45°–90° 自动变角，提升多层膜 / 复杂结构解析可靠性。

  4. 全光学常数：同步输出n/k 波长色散，可替代高端椭偏仪用于半导体 / 光学膜研发。

  5. 非接触无损：不损伤软膜、超薄 / 已加工件，适合晶圆、OLED、柔性材料。

典型应用

  • 半导体：SiO₂、SiN、SiON、poly‑Si、TiN、Al₂O₃（栅氧、钝化层、硬掩模）。

  • 光学 / 显示：ITO、AR/AG 膜、偏光膜、相位差膜、TAC/PET、OLED 封装膜。

  • 功能涂层：DLC、硬质涂层、防指纹膜、粘合剂层、抗反射膜。

  • 研发 / 高端制造：多层复杂结构、微区不均匀、透明基板背反抑制、材料光学特性表征。