OTSUKA 大塚电子 厚度监测仪 FE-300VOTSUKA 大塚电子 厚度监测仪 FE-300V基于高精度分光光度测量的薄膜厚度测量系统体积小巧,价格实惠。所有必要的组件都集成在一个本体中,以实现稳定的测量数据。虽然价格实惠,但准确性没有妥协,甚至支持光学常数分析。特色宽薄膜厚…
OTSUKA 大塚电子 厚度监测仪 FE-300V
OTSUKA 大塚电子 厚度监测仪 FE-300V
基于高精度分光光度测量的薄膜厚度测量系统体积小巧,价格实惠。所有必要的组件都集成在一个本体中,以实现稳定的测量数据。虽然价格实惠,但准确性没有妥协,甚至支持光学常数分析。
宽薄膜厚度范围(1nm~1mm)
利用反射光谱测量厚度
紧凑且价格实惠,同时不牺牲高精度
用户友好的软件界面。
解析算法包括峰谷法、快速傅里叶变换(FFT)方法、非线性最小二乘法和优化法。
非线性最小二乘法的光学常数分析(n:折射率,k:消光系数)
绝对反射率
薄膜厚度(最多10层)
光学常数(n:折射率,k:消光系数)
功能膜、塑料
透明膜(ITO、银纳米线)、延迟膜、偏振膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、胶粘剂、保护膜、硬涂层
半导体、化合物半导体
硅、氧化物薄膜、氮化物薄膜、光阻、硅化晶、砷化镓、砷化镓、InP、镰铀、铅框架、超高层氧化物、蓝宝石
表面处理
DLC,防锈、防雾添加剂
光学材料
滤镜,AR涂层
FPD
液晶显示器(CF、ITO、LC、PI、PS)、OLED
其他
硬盘、磁带、建筑材料
| 模型 | FE-300V | FE-300UV | FE-300NIR*1 | |
| 概述 | 标准 | 薄膜 | 厚膜 | 厚胶片 (高分辨率) |
| 样本量 | 最大8英寸晶圆(5毫米厚度) | |||
| 厚度范围 (无) | 100nm~40μm | 10nm~20μm | 3微米~300微米 | 15微米~1.5毫米 |
| 波长范围 | 450纳米~780纳米 | 300nm~800nm | 900纳米~1600纳米 | 1470纳米~1600纳米 |
| 准确性 | ±0.2纳米*2 | ±0.2纳米*2 | - | - |
| 重复性 | 0.1nm*3 | 0.1nm*3 | - | - |
| 测量时间 | 0.1s~10s | |||
| 点数 | 约 φ3mm | |||
| 光源 | I2 | D2+ I2 | I2 | I2 |
| 界面 | USB | |||
| 大小,重量 | 280(宽)×570(深)×350(高)毫米,约24公斤 | |||
| 软件 | ||||
| 标准 | 峰谷法、FFT分析、优化、 非线性最小二乘法 | |||
| 可选 | 材料分析软件、后期分析软件、 配方创建、参考图 | |||
*1 索取详细信息
*2 保证VLSI厚度标准(100nm SiO)2/Si)