OTSUKA 大塚电子 厚度监测仪 FE-300UV

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OTSUKA 大塚电子 厚度监测仪 FE-300UV

OTSUKA 大塚电子 厚度监测仪 FE-300UV

OTSUKA 大塚电子 厚度监测仪 FE-300VOTSUKA 大塚电子 厚度监测仪 FE-300V特色宽薄膜厚度范围（1nm~1mm）利用反射光谱测量厚度紧凑且价格实惠，同时不牺牲高精度用户友好的软件界面。解析算法包括峰谷法、快速傅里叶变换（FFT）方法、非线性*小二乘法和优化法。非线性*小…

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Product Detail

OTSUKA 大塚电子  厚度监测仪 FE-300UV

OTSUKA 大塚电子  厚度监测仪 FE-300UV

特色

  • 宽薄膜厚度范围（1nm~1mm）

  • 利用反射光谱测量厚度

  • 紧凑且价格实惠，同时不牺牲高精度

  • 用户友好的软件界面。

  • 解析算法包括峰谷法、快速傅里叶变换（FFT）方法、非线性*小二乘法和优化法。

  • 非线性*小二乘法的光学常数分析（n：折射率，k：消光系数）

测量项目

  • *反射率

  • 薄膜厚度（*多10层）

  • 光学常数（n：折射率，k：消光系数）

应用

  • 功能膜、塑料
    透明膜（ITO、银纳米线）、延迟膜、偏振膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、胶粘剂、保护膜、硬涂层

  • 半导体、化合物半导体
    硅、氧化物薄膜、氮化物薄膜、光阻、硅化晶、砷化镓、砷化镓、InP、镰铀、铅框架、超高层氧化物、蓝宝石

  • 表面处理
    DLC，防锈、防雾添加剂

  • 光学材料
    滤镜，AR涂层

  • FPD
    液晶显示器（CF、ITO、LC、PI、PS）、OLED

  • 其他
    硬盘、磁带、建筑材料

规格
模型FE-300VFE-300UVFE-300NIR*1
概述标准薄膜厚膜厚胶片
（高分辨率）
样本量*8英寸晶圆（5毫米厚度）
厚度范围
（无）		100nm~40μm10nm~20μm3微米~300微米15微米~1.5毫米
波长范围450纳米~780纳米300nm~800nm900纳米~1600纳米1470纳米~1600纳米
准确性±0.2纳米*2±0.2纳米*2--
重复性0.1nm*30.1nm*3--
测量时间0.1s~10s
点数约 φ3mm
光源I2D2+ I2I2I2
界面USB
大小，重量280（宽）×570（深）×350（高）毫米，约24公斤
软件
标准峰谷法、FFT分析、优化、
非线性*小二乘法
可选材料分析软件、后期分析软件、
配方创建、参考图

*1 索取详细信息
*2 保证VLSI厚度标准（100nm SiO）2/Si）