OTSUKA 大塚电子 FE-5000S 台式光谱椭偏仪（薄膜膜厚 ）

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OTSUKA 大塚电子 FE-5000S 台式光谱椭偏仪（薄膜膜厚 ）

OTSUKA 大塚电子 FE-5000S 台式光谱椭偏仪（薄膜膜厚 ）

OTSUKA 大塚电子 FE-5000S 台式光谱椭偏仪（薄膜膜厚 ）OTSUKA 大塚电子 FE-5000S 台式光谱椭偏仪（薄膜膜厚 ）特色可见光和紫外线范围（250-800nm）的椭球偏度测量纳米级薄膜厚度多通道光谱快速测量（超过400色阶）用于详细分析的角度可调机构具备高可操作性，支持光学常…

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Product Detail

OTSUKA 大塚电子 FE-5000S 台式光谱椭偏仪（薄膜膜厚 ）

OTSUKA 大塚电子 FE-5000S 台式光谱椭偏仪（薄膜膜厚 ）

特色

  • 可见光和紫外线范围（250-800nm）的椭球偏度测量

  • 纳米级薄膜厚度

  • 多通道光谱快速测量（超过400色阶）

  • 用于详细分析的角度可调机构

  • 具备高可操作性，支持光学常数数据库和配方注册功能

  • 利用多层拟合分析进行光学常数测量，以控制薄膜厚度和薄膜性能

测量项目

  • 椭圆参数 （tanψ、cosΔ）

  • 光学常数分析（n：反射率，k：消光系数）

  • 厚度分析

应用

  • 半导体晶圆
    栅氧化物薄膜、氮化物薄膜
    SiO2，SixO y，SiN，SiON，SiNx，Al2O3，SiNxOy，聚硅、锌硒、BPSG、TiN
    各波长下光阻的光学常数

  • 复合半导体
    AlxGa（1-x）作为多层薄膜，非晶硅

  • FPD（平面显示器）
    定向胶片
    ITO，MgO用于等离子体显示

  • 新材料
    DLC（类金刚石碳）、超导薄膜、磁头薄膜

  • 光学薄膜TiO
    2，SiO2多层薄膜，防反射薄膜，反射薄膜

  • 光刻
    g射线（436nm）、h射线（405nm）、i射线（365nm）、KrF（248nm）的
    光学常数 各波长下的光刻蚀剂光学常数

规格
模型FE-5000SFE-5000
测量样本反射样品
样本量100x100毫米100x100毫米
原理旋转分析仪方法*1
厚度范围（无）0.1海里~
辐照（反射）角45~90°45~90°
辐照（反射）角度驱动方法自动正弦杆驱动
点数*2约为φ2.0约 φ1.2*3
tanψ 精度< ±0.01
cosΔ 精度< ±0.01
可重复性< 0.01%*4
波长范围*5300~800纳米250~800纳米
探测器多色仪（PDA，CCD）
光源高稳定性氙灯*6
舞台驾驶手动手动挡/自动挡
装载器NG好的
尺寸、重量650（W）×400（D）×560（H）毫米
约50公斤		1300（W）×900（D）×1750（H）毫米
约350公斤*7
软件
分析最小二乘薄膜分析（反射率模型函数、柯西色散模型、nk-柯西色散模型）
理论分析（体面分析（n.k.）、角度依赖性的同时分析