OTSUKA 大塚电子 光谱干涉晶圆厚度计 SF-3/1300OTSUKA 大塚电子 光谱干涉晶圆厚度计 SF-3/1300光谱干涉晶圆厚度计 SF-3在晶圆及其他材料的研磨和抛光过程中,我们以超高速和高精度测量晶圆和树脂的非接触厚度。OTSUKA 大塚电子 SF-3/1300 光谱干涉晶圆厚度计光谱干涉晶…
OTSUKA 大塚电子 光谱干涉晶圆厚度计 SF-3/1300
OTSUKA 大塚电子 光谱干涉晶圆厚度计 SF-3/1300
光谱干涉晶圆厚度计 SF-3在晶圆及其他材料的研磨和抛光过程中,我们以超高速和高精度测量晶圆和树脂的非接触厚度。
光谱干涉晶圆厚度计 SF-3在晶圆及其他材料的研磨和抛光过程中,我们以超高速和高精度测量晶圆和树脂的非接触厚度。
光学方法实现了非接触式且无损性的厚度测量
实现高测量可重复性
支持高速、实时抛光监控。
实现较长的工作距离(WD),并便于与设备集成
通过 TCP/IP 通信从主机设备通过局域网进行控制
可以测量多层厚度。
能够测量临时晶圆(临时键合晶圆)每层的厚度
厚度测量(5层)
各种晶圆(硅、其他化合物晶圆)的厚度测量
集成到研磨、抛光和层压等多种工艺中
除晶圆外厚膜构件的厚度测量

*1:测量初始参考样品空气间隙约1000微米
时的相对标准差(n = 20) *2:WD80毫米探头规格的设计值