TAITEC泰特克 气体培养箱 N2 GENESIS 200TAITEC泰特克 气体培养箱 N2 GENESIS 200规格型号名称N2 GENESIS 200供气压力最大 0.5MPa流速/浓度1 升/分钟时为 99.9%,3 升/分钟时为 99.5%连接直径φ6mm(聚氨酯管)外形尺寸/重量尺寸:300526481毫米,重量:约35公斤…
TAITEC泰特克 气体培养箱 N2 GENESIS 200
TAITEC泰特克 气体培养箱 N2 GENESIS 200
| 型号名称 | N2 GENESIS 200 |
|---|---|
| 供气压力 | 最大 0.5MPa |
| 流速/浓度 | 1 升/分钟时为 99.9%,3 升/分钟时为 99.5% |
| 连接直径 | φ6mm(聚氨酯管) |
| 外形尺寸/重量 | 尺寸:300×526×481毫米,重量:约35公斤 |
| 电源 | 交流100伏・7.5安 |
| 标准配件 | 备用空气滤清器 x 1,聚氨酯管(φ6mm x 5m) x 1 |
| ●与氮气喷涂装置配合使用时,仅适用于喷嘴数量不超过12个的情况。如果喷嘴数量超过12个,请联系我们咨询所需的大流量氮气发生器。 | |
| ●连接MG-71系列时需要转换喷嘴(GST-0205M随附,详情请联系我们)。 | |
| 关于耗材的更换和维护:过滤器堵塞和压缩机老化会导致供气压力和氮气浓度下降。 | |
| 我们建议根据安装环境和运行条件更换过滤器并进行维护。压缩机部件无论是否使用都会老化,因此,如果您经常使用,我们建议每年进行一次维护;即使您完全不使用,我们也建议每 2 至 3 年进行一次维护。 |
品牌 | 所属国 | 主营产品 | 对应行业 |
EYE岩崎 | 日本 | UV固化灯管、照度计、紫外线清洗机等 | 光电/半导体等行业 |
SEN日森 | 日本 | 表面处理装置、光化学反应装置、UV硬化装置、紫外线清洗灯等 | 食品/养殖/医疗/等行业 |
CCS晰写速 | 日本 | 环形光源、点面光源、条形光源、LED光源机等 | 大学院校/实验室、自动化设备、人工智能等行业 |
NPM日脉 | 日本 | 运动控制芯片/旋转(直线)步进马达/驱动器/磁轴直线电机/纳米级高精度定位平台模组等 | 3C半导体行业、智能制造、流体控制、数控机床、电子、汽车、医疗、及院校科研等行业 |
REVOX莱宝克斯 | 日本 | LED线光源装置、光纤用光源装置、影像处理设备、大功率线激光、LED频闪控制器 | 半导体、大学机构等 |
SERIC索莱克 | 日本 | 人工太阳照射灯、光环境模拟器等 | 半导体行业、医疗行业、汽车行业、电子行业、食品行业等 |
SONIC索尼克 | 日本 |
| 半导体行业、气象政府部门、金属加工行业、物流港口业、大学高校研究所 |